Advantages

工艺能力

500nm光刻精度
500nm光刻精度

01

硅通孔
硅通孔

02

深反应离子刻蚀
深反应离子刻蚀

03

应力可控薄膜沉积
应力可控薄膜沉积

04

贵金属沉积
贵金属沉积

05

激光隐切
激光隐切

06